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全新氙弧燈照射機器設備用途：采用能摸擬全陽光光譜的氙弧燈來再現(xiàn)不同環(huán)境下存在的破壞性光波，可以為科研、產(chǎn)品開發(fā)和質(zhì)量控制提供相應的環(huán)境模擬和加速試驗。可用于新材料的選擇、改進現(xiàn)有材料或評估材料組成變化后耐用性的變化試驗，可以很好的模擬在不同環(huán)境條件下，材料暴露在陽光下所產(chǎn)生的變化。
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